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硅物质的物理清洗方法

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所在地: 福建 厦门
有效期至: 长期有效
最后更新: 2012-08-25 11:12
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公司基本资料信息
 
 
产品详细说明

①超声波清洗:超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉硅片片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段,清洗效果更好。
②高压清洗:是用液体喷射片子表面,金属镓喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用,片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用,靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。
③刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。铟箔详情请登录:http://www.andhaometal.com/
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